应Mycronic邀请，今年四月上旬，我司出席了其举办的2016年掩膜版研讨会。

会议在日本横滨太平洋展览中心举行，这是全球唯一一个大面积掩膜版的技术研讨会，来自世界各地大约150名相关人员参加了会议。

会议介绍了TFT面板的未来发展趋势，PPI从500PPI往800PPI发展，面板的分辨率从2um往1um发展，CD从+/-0.2um往+/-0.1um发展，Overlay从+/-0.65um往+/-0.35um发展，相应的Panel局部平整度也从6um要求到2um。而一批技术开发也应运而生：

1、Canon计划推出的新型DUV曝光机，用<375nm的DUV段代替原来的i,g,h波段，可以把线缝分辨率提升到1.2um。

2、Mycronic推出了P800光刻机，在P80光刻机的基础上，采用最新定制的Final Lens，NA提升25%，像场畸变减少3—5倍，Pixel Size缩减20%，把最小线缝从0.75um减少到了0.55um，同时把原来的9Beam描画提升到15Beam，这样在大幅度提升分辨率和CD uniformity的基础上，仍然保持了与P80同样的描画速度。

3、新型的i-line Pellicle和干法蚀刻也将应用于TFT掩膜版，以配合DUV曝光机和PSM，增加曝光DOF，提升CD uniformity。

4、Mask的平整度对于Panel曝光质量的影响被深入研究。Nikon公司Shimizu经理介绍了掩膜版的平整度不好将造成曝光离交，影响CD；造成变形，影响位置精度和套合。超平坦掩膜版也得以诞生，这种掩膜版的整版平整度可以达到5um，局部可以达到2um，但是目前尚未发现并证明有能够测量如此大面积、高精度平整度的测量机存在！

5、为了应对高端封装、MEMS、LED、3D molds的要求，在这次会上，Mycronic还推出了FPS-X光刻机，这是FPS-5500的升级版，这台机器减小了Pixel size(23%)，提升了图形质量，同时把3Beam 激光增加到5Beam，扫描宽度加宽一倍，大大提升了描画速度。

展厅位于横滨海边，环境优美，又恰逢日本樱花季，路旁樱花成片，赏心悦目，不虚此行！